В Москве разработали первый в стране фотолитограф для производства микросхем
В мире меньше 10 стран, способных создавать оборудование для производства микросхем. Теперь в их числе Россия.
На территории особой экономической зоны «Технополис Москва» создали первый в России фотолитограф с разрешением 350 нанометров.
Об этом в своём телеграм-канале сообщил мэр Москвы Сергей Собянин.
«В мире меньше 10 стран, способных создавать это ключевое оборудование для производства микросхем. Теперь в их числе — Россия.
Сделали важнейший шаг к переходу на собственное производство микроэлектроники и полной технологической независимости государства», — написал мэр Москвы.
Отечественная разработка существенно отличается от зарубежных аналогов.
Впервые в качестве излучения использована не ртутная лампа, а твердотельный лазер — мощный и энергоэффективный, с высокой долговечностью и более узким спектром.
Сейчас ведётся разработка фотолитографа с разрешением 130 нанометров. Завершить её планируется в 2026 году.
* * *
Понимаю, что многих не впечатляет это достижение — лидеры рынка уже "штурмуют" технологии с производством в 5 и 3 нм.
Но, учитывая сложность технологии, хорошо, что мы вообще развиваем собственное производство.
А как вы думаете, дойдём до 3 нм?